어플라이드, 2나노 이하 AI 칩 장비 2종 공개
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어플라이드 머티어리얼즈가 2나노 이하 GAA 공정에 최적화된 AI 반도체 제조 장비 2종을 공개했다.
프로듀서 프리시전 PECVD 장비는 초미세 공정에서 기생 커패시턴스를 줄이기 위해 필요한 위치에만 절연막을 정밀 코팅해 전력 누수를 차단한다.
엔듀라 트릴리움 ALD 장비는 금속막을 원자 단위로 정밀 증착해 칩의 성능과 전력 소모를 조절할 수 있게 하며, 이미 주요 파운드리의 2나노 이하 공정에 도입돼 있다.